真空無氧烘箱--BCB光刻膠熱處理固化爐的應用

新材料是高新技術發(fā)展的先導和基礎。新型高性能聚合物和功能聚合物的出現(xiàn)，為飛速發(fā)展的微電子學提供了動力。BCB作為一類高性能聚合物，以它*的性質，將會被越來越多地使用。BCB是具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性、化學穩(wěn)定性、電絕緣性和機械強度的高性能材料。在現(xiàn)代高技術領域有非常重要的應用。

例如在微電子制造中，用作各類器件鈍化防護和層間介電等。 在用作這些方面時，BCB層上都要形成微細的連接瞳孔或連接窗口。在用作這些方面時，BCB層上都要形成微細的連接瞳孔或連接窗口。一般的做法是在BCB膜涂上一層光刻膠，刻出光刻膠圖形，以光刻膠圖形做掩蔽層，再對BCB進行刻蝕，將光刻膠圖形轉移到BCB膜上。

BCB的熱處理固化爐--真空無氧烘箱

涂BCB后，聚合物膜層需被處理以確保對后序處理操作的抵抗性。由BCB樹脂構成的膜的處理需在無氧條件下(<100ppm)進行。

建議在連續(xù)涂覆樹脂時，對由BCB樹脂形成的膜層應進行軟處理。軟處理用來增強沉積于BCB膜上的連續(xù)層的附著。包括:金屬薄膜聚合物、分子化合物。

所有聚合物層沉積好后處理建議最后處理(硬外理)。進行硬外理時要達到95-100%的聚合物轉換度。硬處理與軟外理相似，只是外理時間長些、溫度高些。

真空無氧烘箱

內部尺寸mm：350*350*350(可定制)

材質：內箱采用 316L 醫(yī)用不銹鋼，外箱采用優(yōu)質冷軋板靜電噴塑或不銹鋼

溫度范圍：RT+10-450℃ ，常用 400℃以下

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：≤±1℃

操作模式：人機界面+PLC 控制

升溫速率：≤8℃/min

升溫方式：曲線/定制

降溫方式：水冷+風冷

真空度：≤133pa

氧含量：≤20ppm

   真空無氧烘箱用于PI膠、BCB膠固化，鍵合材料預處理，ITO膜退火，PR膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、PCB板、MEMS器件加工、半導體封裝、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。